技术优势： 1、世界先进的第二代CCD全谱光谱制造技术（数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术)、通道可不受限制 ； 2、引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步，国内首家能生产真空CCD全谱技术光谱仪的制造商； 3、基体范围内通道改变、增加不需费用 4、基体升级方便，无须变动增加硬件 ； 5、优良的数据稳定性，同一样品不同的时间段分析，可获得良好的数据一致性 ； 6、体积小、重量轻， 移动安装方便 ； 7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ； 8、节电、节材、能耗只是普通光谱仪50%。 主要特点： 1、适用于多种有色金属基体，如：铝基、铜基、镁基、锌基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素； 2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用最短的时间达到最优 的分析效果； 3、光学系统采用非真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性极佳； 4、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定； 5、开放式激发台设计，便于各种形状和尺寸的样品分析； 6、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰； 7、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ； 8、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能； 9、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半； 10、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易； 11、高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、氩气压力及光源系统、运算控制系统等模块的运行状况； 12、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性； 13、核心器件全部原装进口，保证了仪器优秀卓越的品质。 技术参数： 光学系统 光学结构 帕邢-龙格结构的全谱非真空型光学系统 光室温度 自动控制恒温：35℃±0.5℃ 波长范围 200-510nm 光栅焦距 150 mm 光栅刻线 2700 l/mm 一级光谱线色散率 1.5 nm/mm 探测器 多块高性能线阵CCD 平均分辨率 30pm/pixel 激发台 气体 冲氩式 氩气流量 激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量 电极 钨材喷射电极技术 吹扫 点击自吹扫功能 补偿 热变形自补偿设计 分析间隙 样品台分析间隙：4mm 激发光源 类型 HEPS数字化固态光源 频率 100-1000Hz 放电电流 1-80A 特殊技术 放电参数优化设计 预燃 高能预燃技术 数据采集系统 处理器 高端ARM处理器，高速数据同步采集处理 接口 基于DM9000A的以太数据传输 电源与环境要求 输入 220VAC 50Hz 功率 分析时最大700W，待机状态40W 工作温度 10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h） 工作湿度 20-80% 尺寸与重量 尺寸 450*350*400 mm 重量 28Kg