全谱直读光谱分析仪是我公司引进欧洲技术生产,是目前最先进的国际公认的第二代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制，炉前化验，中心实验室成品检验。仪器体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便，是控制产品质量的理想选择。
技术优势：
1、世界先进的第二代CCD全谱光谱制造技术（数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术)、通道可不受限制 ；
2、引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步，国内首家能生产真空CCD全谱技术光谱仪的制造商；
3、基体范围内通道改变、增加不需费用
4、基体升级方便，无须变动增加硬件 ；
5、优良的数据稳定性，同一样品不同的时间段分析，可获得良好的数据一致性 ；
6、体积小、重量轻， 移动安装方便 ；
7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ；
8、节电、节材、能耗只是普通光谱仪50%。
主要特点：
1、适用于多种有色金属基体，如：铝基、铜基、镁基、锌基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；
2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用最短的时间达到最优 的分析效果；
3、光学系统采用非真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性极佳；
4、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；
5、开放式激发台设计，便于各种形状和尺寸的样品分析；
6、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰；
7、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；
8、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；
9、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；
10、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易；
11、高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、氩气压力及光源系统、运算控制系统等模块的运行状况；
12、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；
13、核心器件全部原装进口，保证了仪器优秀卓越的品质。
技术参数：
光学系统 |
光学结构 | 帕邢-龙格结构的全谱非真空型光学系统 |
光室温度 | 自动控制恒温：35℃±0.5℃ |
波长范围 | 200-510nm |
光栅焦距 | 150 mm |
光栅刻线 | 2700 l/mm |
一级光谱线色散率 | 1.5 nm/mm |
探测器 | 多块高性能线阵CCD |
平均分辨率 | 30pm/pixel |
激发台 |
气体 | 冲氩式 |
氩气流量 | 激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量 |
电极 | 钨材喷射电极技术 |
吹扫 | 点击自吹扫功能 |
补偿 | 热变形自补偿设计 |
分析间隙 | 样品台分析间隙：4mm |
激发光源 |
类型 | HEPS数字化固态光源 |
频率 | 100-1000Hz |
放电电流 | 1-80A |
特殊技术 | 放电参数优化设计 |
预燃 | 高能预燃技术 |
数据采集系统 |
处理器 | 高端ARM处理器，高速数据同步采集处理 |
接口 | 基于DM9000A的以太数据传输 |
电源与环境要求 |
输入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析时最大700W，待机状态40W |
工作温度 | 10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h） |
工作湿度 | 20-80% |
尺寸与重量 |
尺寸 | 450*350*400 mm |
重量 | 30Kg |